Las autoridades chinas publican directrices para el desarrollo de capacidades en metrología de IA
Las autoridades chinas han publicado una guía para el desarrollo de un sistema de metrología basado en inteligencia artificial y el desarrollo de capacidades relacionadas, con el fin de planificar de manera sistemática el desarrollo de las capacidades de metrología de IA en el país.
La directriz fue publicada por la Administración Estatal para la Regulación del Mercado (SAMR) y la Comisión Nacional de Desarrollo y Reforma. Según la SAMR, la publicación de esta directriz marca un cambio fundamental en el sector de la IA en China, pasando de simplemente expandir la capacidad y la escala de computación a mejorar la calidad y fortalecer las capacidades fundamentales.
Esto reviste gran importancia para promover la integración profunda de la tecnología de IA con la economía real y acelerar el desarrollo de nuevas fuerzas productivas de calidad, afirmó la SAMR. La guía se centra en seis áreas clave: apoyo fundamental, tecnología general, tecnología central, normas técnicas metrológicas, industria de servicios de metrología y potenciación inteligente de la metrología. El esquema del XV Plan Quinquenal de China (2026-2030), publicado en marzo de 2026, hace hincapié claramente en la implementación integral de la iniciativa «IA Plus».
Fuente: CGTN
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